Les anodes massives actuelles sont réalisées par un procédé de frittage d'une couche de Tunsgtène-Rhénium (WRe) sur un noyau massif en TZM (Titane, Zirconium, Molybdène). Un disque de graphite rapporté par brasure peut assurer la dissipation thermique.

ACERDE propose de réaliser le dépôt de Tungstène-Rhénium directement sur graphite et de ne conserver le TZM que pour la partie insert.

Le dépôt gazeux à haute température

L'innovation clé des anodes légères tournantes est le dépôt d'une couche mince de Tungstène-Rhénium par la technique de CVD (Chemical Vapor Deposition).

ACERDE maîtrise la technologie CVD sur des substrats en graphite et composite, assurant la stabilité thermo-dynamique de l'interface Tungstène-Rhénium.

La technologie CVD permet aux anodes ACERDE un stockage thermique plus élevé que celui proposé par les anodes conventionnelles massives TZM.

Thermodynamique du dépôt

Avec T > 400°C, WF₆ + 3H₂ → W + 6HF

Cinétique de la réaction

Taux = constante . e^-Ea/KT . [P_WF6]⁰ . [P_H2]^1/2

Taux = d_épaisseur / d_temps